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真空烧结炉

  • 型   号:氮化硅专用
  • 价   格:350000

产品简介:该系列真空烧结设备主要用于硬质合金、磁性材料、陶瓷以及粉末材料的真空烧结,特别适用于稀土永磁材料钕-铁-硼及其它粉状材料的真空烧结。针对材料的高温烧结工艺保证耐热及绝缘性可靠性设计,新型电极结构杜绝了高温炉电极漏水现象,并且加热系统中的易损部件更便于维修和更换。

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产品名称:氮化硅真空烧结炉
      号:VHS
      格:详见产品简介

产品简介:该真空烧结炉主要用于氮化硅、碳化硅、氧化锆、及金属材料真空烧结处理;特别适用于氮化硅材料的真空烧结。

应用领域: 氮化硅、碳化硅、氧化锆、及金属材料

主要技术参数:

型号

恒温区尺寸

mm

最高温度

极限真空度

Pa

恒温特性

压升率

Pa/h

加热功率

(kW)

装炉量

kg

VHSgr-45-1800

300×200×200

1800

10

±5

0.6

45

20

VHSgr-150-1800

600×400×400

1800

10

±5

0.6

150

100

VHSgr-240-2300

900×600×600

2300

10

±10

0.6

240

300

VHSgr-420-2300

1200×800×800

2300

19

±10

0.6

420

800

我司可定制各种非标炉,不同炉膛尺寸、不同温度范围内的真空炉、气氛炉等。欢迎来电咨询!

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